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120kHz अल्ट्रासोनिक ट्रांसड्यूसर अल्ट्रासोनिक डिवाइस का मुख्य घटक है, और इसकी पैरामीटर विशेषताएं पूरे डिवाइस के प्रदर्शन को निर्धारित करती हैं। 120kHz अल्ट्रासोनिक ट्रांसड्यूसर मैग्नेटोस्ट्रिक्टिव संरचना के अलावा आमतौर पर इस्तेमाल किया जाने वाला सैंडविच ट्रांसड्यूसर है।

100l अल्ट्रासोनिक क्लीनर आरए श्रृंखला औद्योगिक अनुप्रयोगों के लिए उपयुक्त दोहरी आवृत्ति अल्ट्रासोनिक सफाई मशीन है। मुख्य घटक अल्ट्रासोनिक जनरेटर सबसे उन्नत टी प्रौद्योगिकी मंच को गोद लेता है जिसमें उच्च सफाई दक्षता, सरल संचालन और साइट पर डिबगिंग की कोई आवश्यकता नहीं होती है। इसका व्यापक रूप से धातु उत्पादों, ऑटो पार्ट्स, इलेक्ट्रॉनिक्स सफाई, चिकित्सा उपकरणों, ऑप्टिकल ग्लास सफाई आदि में उपयोग किया जा सकता है।

20khz अल्ट्रासोनिक जनरेटर मुख्य उपकरण है जो विद्युत ऊर्जा को यांत्रिक ऊर्जा (अल्ट्रासोनिक) में परिवर्तित करता है, पीजोइलेक्ट्रिक सिरेमिक चिप को प्रसिद्ध आपूर्तिकर्ता से चुना जाता है, और एक मजबूत और स्थिर आउटपुट दे सकता है। आवृत्ति मुख्य रूप से 20kHz है, हम आपके अनुरोध के रूप में अल्ट्रासोनिक ट्रांसड्यूसर, बूस्टर के साथ अल्ट्रासोनिक ट्रांसड्यूसर, बूस्टर और सोनोट्रोड के साथ अल्ट्रासोनिक ट्रांसड्यूसर प्रदान कर सकते हैं।

इमर्सिबल अल्ट्रासोनिक ट्रांसड्यूसर यूनिट को तीन तरीकों से टैंक में स्थापित किया जा सकता है: साइड, टॉप और बॉटम। अल्ट्रासोनिक सफाई उपकरण विसर्जन अल्ट्रासोनिक ट्रांसड्यूसर और जनरेटर से बना है। यदि मानक मॉडल की अल्ट्रासोनिक सफाई मशीन एक विशिष्ट कार्य वातावरण पर लागू नहीं की जा सकती है, तो आप विशेष विनिर्देशों को अनुकूलित करने के अनुसार विसर्जन अल्ट्रासोनिक ट्रांसड्यूसर पैक भी बना सकते हैं।

टीयू श्रृंखला अल्ट्रासोनिक सफाई जनरेटर एक अल्ट्रासोनिक जनरेटर है जिसे क्लैंगसोनिक कंपनी द्वारा दस वर्षों से अधिक समय से विकसित किया गया है और यह उच्च अंत औद्योगिक सफाई के क्षेत्र में स्थित है। यह अल्ट्रासोनिक सफाई जनरेटर नई तकनीक के साथ और फुल-ब्रिज फेज शिफ्ट, निरंतर बिजली उत्पादन, स्वचालित आवृत्ति पीछा और स्वचालित प्रतिबाधा परिवर्तन के साथ विकसित किया गया है। यह विभिन्न कामकाजी परिस्थितियों की स्थिरता के लिए जनरेटर की अनुकूलन क्षमता में और सुधार कर सकता है।

अल्ट्रासोनिक प्लेट ट्रांसड्यूसर प्लेट्स को टैंक की दीवार में कटे हुए एपर्चर पर लगाया जाता है और विकिरण सतह सफाई माध्यम के सीधे संपर्क में होती है।