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R30 अल्ट्रासोनिक क्लीनर मैनुअल प्रयोगशाला उपयोग, गहने, चश्मा, लेंस और औद्योगिक अति सूक्ष्म घटकों की सफाई के लिए उपयुक्त है। यह उन्नत पूर्ण ब्रिज चरण शिफ्ट प्रौद्योगिकी के आधार पर विकसित किया गया है और एलसीडी डिस्प्ले, टाइमर, हीटर आदि से लैस है, संचालित करने में आसान है और डीबग करने की कोई आवश्यकता नहीं है।

टीडी श्रृंखला जनरेटर एक दोहरी आवृत्ति वाला अल्ट्रासोनिक जनरेटर है जिसे क्लैंगसोनिक कंपनी द्वारा दस वर्षों से अधिक समय से विकसित किया गया है और यह उच्च अंत औद्योगिक सफाई के क्षेत्र में तैनात है। एक एकल जनरेटर दो अलग-अलग आवृत्तियों का उत्पादन कर सकता है। यह जनरेटर नई तकनीक के साथ और फुल-ब्रिज फेज शिफ्ट, निरंतर बिजली उत्पादन, स्वचालित आवृत्ति पीछा और स्वचालित प्रतिबाधा परिवर्तन के साथ विकसित किया गया है। यह विभिन्न कामकाजी परिस्थितियों की स्थिरता के लिए जनरेटर की अनुकूलन क्षमता में और सुधार कर सकता है।

यह M-120 वैरिएबल फ़्रीक्वेंसी अल्ट्रासोनिक क्लीनर डिवाइस एक स्वचालित उपकरण है, जिसका उपयोग विशेष रूप से सफाई उद्योग के लिए किया जाता है। इसमें पैरामीटर सेटिंग्स, लोडिंग/अनलोडिंग प्लेटफॉर्म और ऑसीलेशन सिस्टम के लिए उपयोगकर्ता के अनुकूल इंटरफेस प्राप्त करने के लिए सीमेंस एचएमआई के साथ 1 अल्ट्रासोनिक सफाई टैंक शामिल है। यह उन्नत पूर्ण ब्रिज चरण शिफ्ट प्रौद्योगिकी के आधार पर विकसित किया गया है और एलसीडी डिस्प्ले, टाइमर, हीटर आदि से लैस है, संचालित करने में आसान है और डीबग करने की कोई आवश्यकता नहीं है। यह व्यापक रूप से धातु भागों, ऑटो भागों, इलेक्ट्रॉनिक्स और चिकित्सा उद्योगों आदि में उपयोग किया जाता है।

इस अल्ट्रासोनिक क्लीनर जनरेटर को व्यक्तिगत रूप से एक वॉशिंग टैंक से जोड़ा जा सकता है या बड़े अल्ट्रासोनिक सफाई प्रणाली में एकीकृत किया जा सकता है। किसी भी तरह से, यह तेज, समान और सही सफाई प्रभाव प्राप्त करेगा।

R30 लैब अल्ट्रासोनिक क्लीनर प्रयोगशाला उपयोग, गहने, चश्मा, लेंस और औद्योगिक अति सूक्ष्म घटकों की सफाई के लिए उपयुक्त है। लैब अल्ट्रासोनिक क्लीनर उन्नत फुल ब्रिज फेज शिफ्ट तकनीक के आधार पर विकसित किया गया है और एलसीडी डिस्प्ले, टाइमर, हीटर आदि से लैस है, संचालित करने में आसान है और डीबग करने की कोई आवश्यकता नहीं है।

अल्ट्रासोनिक प्लेट ट्रांसड्यूसर प्लेट्स को टैंक की दीवार में कटे हुए एपर्चर पर लगाया जाता है और विकिरण सतह सफाई माध्यम के सीधे संपर्क में होती है।